Mask, mask stage, exposure apparatus, method of exposure and process for manufacturing device

WO2008078509 Art A1 3. Juli 2008

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008078509
Aktenzeichen: EP07849997
Anmeldetag: 3. Dezember 2007
Veröffentlichung: 3. Juli 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von