Lithographische Vorrichtung und Verfahren
WO2008078993
Art A2
3. Juli 2008
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT AG 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008078993
- Aktenzeichen
- EP07851921
- Anmeldetag
- 18. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT AG - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
Slenders, Petrus Johannes Waltherus
Eindhoven, Niederlande
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