Patterning device, method of providing a patterning device, photolithographic apparatus and device manufacturing method

WO2008079007 Art A1 3. Juli 2008

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008079007
Aktenzeichen: EP07851951
Anmeldetag: 21. Dezember 2007
Veröffentlichung: 3. Juli 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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