Alicyclic structure-containing chloromethyl ether, polymerizable monomer for photoresist, and method for producing the same
WO2008081768
Art A1
10. Juli 2008
Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008081768
- Aktenzeichen
- EP07860026
- Anmeldetag
- 25. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 10. Juli 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07D307/00C07D307/32C07D493/18C08F20/28G03F7/039H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Idemitsu Kosan Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
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Vertreten von
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