Polymer for resist, resist composition, and method for production of substrate having fine pattern formed thereon

WO2008081822 Art A1 10. Juli 2008

Anmelder: Mitsubishi Rayon Co. Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008081822
Aktenzeichen: EP07860203
Anmeldetag: 26. Dezember 2007
Veröffentlichung: 10. Juli 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C08F220/26G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Rayon Co. Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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