Cocrpt-based sputtering target and method for production thereof

WO2008081841 Art A1 10. Juli 2008

Anmelder: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008081841
Aktenzeichen: EP07860260
Anmeldetag: 26. Dezember 2007
Veröffentlichung: 10. Juli 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C19/00G11B5/851

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsui Mining & Smelting

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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