Aberration evaluation pattern, aberration evaluation method, aberration correction method, electron beam drawing apparatus, electron microscope, master, stamper, recording medium, and structure

WO2008082000 Art A1 10. Juli 2008

Anmelder: Ricoh Company, Ltd., CRESTEC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008082000
Aktenzeichen: EP07860612
Anmeldetag: 27. Dezember 2007
Veröffentlichung: 10. Juli 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G01N1/00G03F7/20H01J37/153H01J37/28H01J37/305

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Ricoh Company, Ltd.
CRESTEC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Ricoh

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Bürogeräte wie Drucker, Kopierer und Multifunktionssysteme sowie zugehörige Dokumenten- und IT-Dienstleistungen anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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