Polymer having antireflective properties and high carbon content, hardmask composition including the same, and process for forming a patterned material layer

WO2008082241 Art A1 10. Juli 2008

Anmelder: CHEIL INDUSTRIES INC. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008082241
Aktenzeichen: EP07860816
Anmeldetag: 31. Dezember 2007
Veröffentlichung: 10. Juli 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C08G61/10

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CHEIL INDUSTRIES INC.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Cheil Industries Inc.

Ehemaliges südkoreanisches Chemie- und Materialunternehmen der Samsung-Gruppe, 2015 in Samsung C&T Corporation aufgegangen und heute nicht mehr eigenständig tätig.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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