Method and system for creating self-aligned twin wells with co-planar surfaces in a semiconductor device

WO2008083411 Art A2 10. Juli 2008

Anmelder: ATMEL CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2008083411
Aktenzeichen
EP08743436
Anmeldetag
5. Januar 2008
Veröffentlichung
10. Juli 2008
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/426
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ATMEL CORPORATION
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Atmel

Atmel war ein US-amerikanischer Halbleiterhersteller für Mikrocontroller und wurde 2016 von Microchip Technology übernommen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt um Datenspeicherung und Elektronik. Anmeldungen liegen im Zeitraum 2000 bis 2021.

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