Process for producing semiconductor device and apparatus for semiconductor device production

WO2008084524 Art A1 17. Juli 2008

Anmelder: Fujitsu Microelectronics Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008084524
Aktenzeichen: EP07706421
Anmeldetag: 9. Januar 2007
Veröffentlichung: 17. Juli 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/288C25D5/18C25D7/12C25D21/12H01L21/3205

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Microelectronics Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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