Optical element, finder optical system, photometric optical system, photographing optical system, and imaging method and photometric method using the element and the systems
WO2008084702
Art A1
17. Juli 2008
Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008084702
- Aktenzeichen
- EP07851107
- Anmeldetag
- 19. Dezember 2007
- Veröffentlichung
- 17. Juli 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02B3/14G03B13/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nikon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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