Electrostatic Chuck

WO2008084770 Art A1 17. Juli 2008

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2008084770
Aktenzeichen
EP08702899
Anmeldetag
7. Januar 2008
Veröffentlichung
17. Juli 2008
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/683H02N13/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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