Electrostatic Chuck
WO2008084770
Art A1
17. Juli 2008
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008084770
- Aktenzeichen
- EP08702899
- Anmeldetag
- 7. Januar 2008
- Veröffentlichung
- 17. Juli 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/683H02N13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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