Liquid crystal photomask for exposure apparatus, exposure apparatus and exposure method

WO2008084825 Art A1 17. Juli 2008

Anmelder: Nippon Chemical Industrial Co., Ltd., University of Yamanashi 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008084825
Aktenzeichen: EP08703043
Anmeldetag: 10. Januar 2008
Veröffentlichung: 17. Juli 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G02F1/13G02F1/137G03F1/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nippon Chemical Industrial Co., Ltd.
University of Yamanashi
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Chemical Industrial

Nippon Chemical Industrial ist ein japanischer Chemiehersteller mit Sitz in Tokio, der unter anderem anorganische Feinchemikalien und leitfähige Partikel produziert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf anorganische Chemie sowie Halbleiter- und elektrische Bauelemente. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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