Method of reducing particle contamination for ion implanters

WO2008085405 Art A1 17. Juli 2008

Anmelder: Axcelis Technologies, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008085405
Aktenzeichen: EP07853457
Anmeldetag: 20. Dezember 2007
Veröffentlichung: 17. Juli 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/08H01J37/248H01J37/302

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Axcelis Technologies, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Axcelis Technologies

Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.

377 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von