Volatile liquid copper precursors for thin film applications

WO2008085426 Art A1 17. Juli 2008

Anmelder: Air Products and Chemicals, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008085426
Aktenzeichen: EP07867969
Anmeldetag: 21. Dezember 2007
Veröffentlichung: 17. Juli 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C07F7/00C23C8/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Air Products and Chemicals, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Air Products

US-amerikanisches Industriegasunternehmen mit Sitz in Allentown, Pennsylvania, Hersteller und Lieferant von Industriegasen sowie zugehörigen Anlagen und Verfahrenstechnik.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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