Precursor compositions for ald/cvd of group ii ruthenate thin films

WO2008088563 Art A2 24. Juli 2008

Anmelder: Advanced Technology Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2008088563
Aktenzeichen
EP07758384
Anmeldetag
12. März 2007
Veröffentlichung
24. Juli 2008
Rechtsraum
WO
IPC
C07F17/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Advanced Technology Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Advanced Technology Materials

Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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