Semiconductor device and method for manufacturing the same

WO2008093414 Art A1 7. August 2008

Anmelder: Fujitsu Microelectronics Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008093414
Aktenzeichen: EP07707787
Anmeldetag: 31. Januar 2007
Veröffentlichung: 7. August 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L23/28H01L23/00H01L23/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Microelectronics Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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