Method and system for fabricating a nano-structure

WO2008094286 Art A2 7. August 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008094286
Aktenzeichen: EP07872680
Anmeldetag: 28. Juni 2007
Veröffentlichung: 7. August 2008
Rechtsraum: WO
IPC: B81C1/00B05D7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Verfahrens- & Trenntechnik

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