Compositions and methods for forming and depositing metal films on semiconductor substrates using supercritical solvents

WO2008094494 Art A1 7. August 2008

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008094494
Aktenzeichen: EP08724855
Anmeldetag: 28. Januar 2008
Veröffentlichung: 7. August 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/18C23C14/14H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von