Silicon-containing polymer, method for synthesizing the same, film-forming composition, silica film and method for forming the silica film
WO2008096656
Art A1
14. August 2008
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008096656
- Aktenzeichen
- EP08704243
- Anmeldetag
- 31. Januar 2008
- Veröffentlichung
- 14. August 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08G77/50C01B33/12C09D183/04C09D183/08C09D183/14C09D185/00H01L21/312H01L21/316
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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