Insulating film material for organic thin film transistor and organic thin film transistor using the insulating film material

WO2008096850 Art A1 14. August 2008

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008096850
Aktenzeichen: EP08711006
Anmeldetag: 8. Februar 2008
Veröffentlichung: 14. August 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/786H01L21/312H01L51/05H01L51/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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