Methods of and apparatus for aligning electrodes in a process chamber to protect an exclusion area within an edge environ of a wafer

WO2008097662 Art A1 14. August 2008

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008097662
Aktenzeichen: EP08725401
Anmeldetag: 7. Februar 2008
Veröffentlichung: 14. August 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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