Semiconductor device and method of forming a semiconductor device

WO2008099229 Art A1 21. August 2008

Anmelder: Freescale Semiconductor Inc 🇬🇧

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008099229
Aktenzeichen: EP07734804
Anmeldetag: 14. Februar 2007
Veröffentlichung: 21. August 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78H01L21/336H01L29/06H01L29/423H01L29/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Freescale Semiconductor Inc
Land: 🇬🇧 Großbritannien

🇺🇸 Freescale Semiconductor

Ehemaliger US-amerikanischer Halbleiterhersteller, hervorgegangen aus einem Spin-off von Motorola, mit Schwerpunkt auf Mikrocontrollern und eingebetteten Prozessoren. Seit 2015 Teil von NXP Semiconductors.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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