Precursor selection method for chemical vapor deposition techniques

WO2008100633 Art A1 21. August 2008

Anmelder: The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University, Honda Motor Co., Ltd. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008100633
Aktenzeichen: EP08725742
Anmeldetag: 14. Februar 2008
Veröffentlichung: 21. August 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University
Honda Motor Co., Ltd.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University

Rechtsträger der US-amerikanischen Stanford University in Kalifornien, der als Anmelder der zahlreichen Patente aus der Universitätsforschung fungiert. Schwerpunkte liegen unter anderem in Biotechnologie, Informatik und Materialwissenschaften.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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