Method of treating substrate and pre-wetting solvent for upper-film-forming material to be applied to surface of resist film

WO2008102689 Art A1 28. August 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited, JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008102689
Aktenzeichen: EP08711277
Anmeldetag: 14. Februar 2008
Veröffentlichung: 28. August 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/38G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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