Pulsed plasma system with pulsed sample bias for etching semiconductor structures

WO2008103456 Art A2 28. August 2008

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008103456
Aktenzeichen: EP08725960
Anmeldetag: 21. Februar 2008
Veröffentlichung: 28. August 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/00H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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