Method and instrument for chemical defect characterization in high vacuum
WO2008103617
Art A1
28. August 2008
Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008103617
- Aktenzeichen
- EP08730035
- Anmeldetag
- 15. Februar 2008
- Veröffentlichung
- 28. August 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B5/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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