Pellicle frame apparatus, mask, exposure method, exposure apparatus and device manufacturing method

WO2008105531 Art A1 4. September 2008

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008105531
Aktenzeichen: EP08721048
Anmeldetag: 29. Februar 2008
Veröffentlichung: 4. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/14B65D85/86G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verpackungs- & Fördertechnik

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