An Anti-Reflection Layer With Nano Particles

WO2008106142 Art A1 4. September 2008

Anmelder: Olympus Corporation, Silicon Quest Kabushiki-kaisha, Fusao, Ishii 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008106142
Aktenzeichen: EP08726126
Anmeldetag: 26. Februar 2008
Veröffentlichung: 4. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/302

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Olympus Corporation
Silicon Quest Kabushiki-kaisha
Fusao, Ishii
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Olympus

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Olympus ist auf Medizintechnik spezialisiert, insbesondere Endoskopie- und Bildgebungssysteme, sowie auf wissenschaftliche Instrumente und Präzisionsoptik.

8.021 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von