Verfahren zur Messung der Ausgasung sowie Euv-Lithographievorrichtung und Messaufbau

WO2008107136 Art A1 12. September 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008107136
Aktenzeichen: EP08716165
Anmeldetag: 3. März 2008
Veröffentlichung: 12. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT AG
ASML Netherlands B.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von