Verfahren zum Reinigen einer Euv-Lithographievorrichtung, Verfahren zur Messung der Restgasatmosphäre Bzw. der Kontamination sowie Euv-Lithographievorrichtung

WO2008107166 Art A1 12. September 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008107166
Aktenzeichen: EP08716248
Anmeldetag: 5. März 2008
Veröffentlichung: 12. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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