Liquid crystal alignment film forming method using reactive sputtering of silicon
WO2008108479
Art A1
12. September 2008
Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008108479
- Aktenzeichen
- EP08721648
- Anmeldetag
- 3. März 2008
- Veröffentlichung
- 12. September 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G02F1/1337
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Canon Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Canon
Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.
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