Removal of deposition on an element of a lithographic apparatus

WO2008108643 Art A2 12. September 2008

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008108643
Aktenzeichen: EP08723874
Anmeldetag: 4. März 2008
Veröffentlichung: 12. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: B08B3/04B08B3/08B08B3/10B08B3/12G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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