Processing system and method for performing high throughput non-plasma processing

WO2008109504 Art A2 12. September 2008

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008109504
Aktenzeichen: EP08731220
Anmeldetag: 3. März 2008
Veröffentlichung: 12. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00H01L21/677H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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