Diffractive component, interferometer arrangement, method for qualifying a dual diffraction grating, method of manufacturing an optical element, and interferometric method

WO2008110239 Art A1 18. September 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008110239
Aktenzeichen: EP08707653
Anmeldetag: 11. Februar 2008
Veröffentlichung: 18. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G01B9/02G02B5/18G02B5/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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