Optimal rasterization for maskless lithography

WO2008110358 Art A1 18. September 2008

Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008110358
Aktenzeichen: EP08716483
Anmeldetag: 12. März 2008
Veröffentlichung: 18. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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