Photosensitive composition, photosensitive film, method for formation of permanent pattern, and print substrate

WO2008111247 Art A1 18. September 2008

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008111247
Aktenzeichen: EP07807160
Anmeldetag: 12. September 2007
Veröffentlichung: 18. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004H05K3/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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