Vertical heat-treating boat, and semiconductor wafer heat-treating method
WO2008111286
Art A1
18. September 2008
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008111286
- Aktenzeichen
- EP08720298
- Anmeldetag
- 28. Februar 2008
- Veröffentlichung
- 18. September 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/22H01L21/31H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Fachgebiete
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