Transparent conductive film and method for manufacturing the transparent conductive film, and sputtering target used in the method
WO2008111324
Art A1
18. September 2008
Anmelder: Asahi Glass Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2008111324
- Aktenzeichen
- EP08703239
- Anmeldetag
- 15. Januar 2008
- Veröffentlichung
- 18. September 2008
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C04B35/457C23C14/08H01B5/14H01B13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Glass Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
AGC (Asahi Glass)
Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.
2.222 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.