Transparent conductive film and method for manufacturing the transparent conductive film, and sputtering target used in the method

WO2008111324 Art A1 18. September 2008

Anmelder: Asahi Glass Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2008111324
Aktenzeichen
EP08703239
Anmeldetag
15. Januar 2008
Veröffentlichung
18. September 2008
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/34C04B35/457C23C14/08H01B5/14H01B13/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Asahi Glass Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

2.222 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen