Photosensitive compound, photosensitive composition, resist pattern forming method, and device production process

WO2008111378 Art A1 18. September 2008

Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008111378
Aktenzeichen: EP08720792
Anmeldetag: 14. Februar 2008
Veröffentlichung: 18. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07D311/84C08G8/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

19.221 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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