Coating solution for film formation, method for production of the coating solution, and method for production of semiconductor device

WO2008111463 Art A1 18. September 2008

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008111463
Aktenzeichen: EP08721391
Anmeldetag: 5. März 2008
Veröffentlichung: 18. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C09D7/12C09D183/06C09D183/07H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von