Cobalt-containing film-forming material and method for forming cobalt silicide film using the material

WO2008111499 Art A1 18. September 2008

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008111499
Aktenzeichen: EP08721539
Anmeldetag: 7. März 2008
Veröffentlichung: 18. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/42H01L21/28H01L21/285

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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