Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Elements mit mindestens einer Freiformfläche mit Hoher Formgenauigkeit und Geringer Oberflächenrauhigkeit

WO2008113858 Art A2 25. September 2008

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2008113858
Aktenzeichen
EP08718108
Anmeldetag
20. März 2008
Veröffentlichung
25. September 2008
Rechtsraum
WO
IPC
B24B13/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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