Exposure method, method for manufacturing flat panel display substrate, and exposure apparatus

WO2008114543 Art A1 25. September 2008

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008114543
Aktenzeichen: EP08704475
Anmeldetag: 30. Januar 2008
Veröffentlichung: 25. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von