Radiation-Sensitive Resin Composition

WO2008114635 Art A1 25. September 2008

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008114635
Aktenzeichen: EP08721674
Anmeldetag: 10. März 2008
Veröffentlichung: 25. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/029G03F7/031G03F7/033

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von