Apparatus for generating gas having extremely low oxygen concentration, processing system, thin film deposition method and inert gas

WO2008114740 Art A1 25. September 2008

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Redoxyon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008114740
Aktenzeichen: EP08722174
Anmeldetag: 14. März 2008
Veröffentlichung: 25. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C25B1/02C01B23/00C23C16/18C23C16/56C23C28/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Redoxyon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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