Film-forming composition, silica film and method for forming the same

WO2008114835 Art A1 25. September 2008

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008114835
Aktenzeichen: EP08738684
Anmeldetag: 13. März 2008
Veröffentlichung: 25. September 2008
Rechtsraum: WO
IPC: C09D183/04C08L83/04C08L83/05C09D5/25C09D183/05C09D183/14H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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