Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device

WO2008117431 Art A1 2. Oktober 2008

Anmelder: Fujitsu Microelectronics Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008117431
Aktenzeichen: EP07739807
Anmeldetag: 27. März 2007
Veröffentlichung: 2. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: H01L29/78H01L21/768H01L21/8238H01L23/522H01L27/092

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujitsu Microelectronics Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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