Photosensitive Insulating Resin Composition

WO2008117619 Art A1 2. Oktober 2008

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008117619
Aktenzeichen: EP08720986
Anmeldetag: 28. Februar 2008
Veröffentlichung: 2. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038C08G59/68C08G65/18G03F7/004G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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