Contamination prevention system, lithographic apparatus, radiation source and device manufacturing method

WO2008118009 Art A1 2. Oktober 2008

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2008118009
Aktenzeichen: EP08723911
Anmeldetag: 20. März 2008
Veröffentlichung: 2. Oktober 2008
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G21K1/00G21K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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